Name: فرن أكسدة LPCVD 8/6/4/2 بوصة الأتمتة الكاملة تحكم الأكسجين المنخفض ترسب فيلم رقيق
Uploaded: 2026-03-10CDT00:13:12-05:00
Duration: 46 s
Description: Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

دردشة اتصل بنا

فرن أكسدة LPCVD 8/6/4/2 بوصة الأتمتة الكاملة تحكم الأكسجين المنخفض ترسب فيلم رقيق

مقاطع فيديو أخرى

April 27, 2025

دردشة اتصل بنا

وصف الفيديو:

Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

فيديوهات ذات علاقة