10x10mm مسح إلكتروني مجهر P نوع رقاقة سيليكون قطعة مربعة SEM

منتوج وصف

2 بوصة 3 بوصة 4 بوصة 5 بوصة 6 بوصة 8 بوصة 12 بوصة FZ CZ N- نوع مصقول رقاقة السيليكون DSP SiO2 رقائق أكسيد السيليكون

1 بوصة 2 بوصة 10x10 مللي متر المسح الإلكتروني المجهر رقاقة السيليكون قطعة مربعة صغيرة SEM

رقاقة سيليكون مصقولة عالية النقاء (11N) 1-12 بوصة رقائق Czochralski أحادية ومزدوجة المصقول
مقاسات 1 "2" 3 "4" 5 "6" 8 "12" ورقائق بحجم ومواصفات خاصة
قرص تلميع فردي للسطح ، قرص تلميع مزدوج ، قرص جلخ ، قرص تآكل ، قرص تقطيع
اتجاه الكريستال <100> <111> <110> <211> <511> ورقاقات السيليكون بزوايا مختلفة
سمك 100um 200um 300um 400um 500um 1 مم 5 مم وسمك آخر ، والتسامح سمك + -10um ،

TTV <10um أو وفقًا لمتطلبات العملاء ، خشونة <0.2 نانومتر
نوع الموصلية N- نوع ، P- نوع ، undope (مقاومة عالية جوهريًا)
طريقة الكريستال الفردي Czochralski (CZ) ، ذوبان المنطقة (FZ) ، NTD (الصورة الوسطى)
مقاومة إعادة المنشطات يمكن أن تصل إلى <0.001 أوم.سم ، منخفضة المنشطات التقليدية 1 ~ 10 أوم ، متوسطة الإضاءة التقليدية 500 ~ 800 أوم.سم ،

منطقة الذوبان الجوهرية:> 1000 أوم.سم ،> 3000 أوم.سم ،> 5000 أوم.سم ،> 8000 أوم.سم ،> 10000 أوم.سم
معلمات عملية التسطيح TIR: ≤3μm ، Warpage TTV: ≤10μm ،
القوس / الالتفاف 40 ميكرومتر ، الخشونة 0.5 نانومتر ، حجم الجسيمات <≤10ea @> 0.3 ميكرومتر)
طريقة التعبئة والتغليف فراغ رقائق الألومنيوم فائقة النقاء التعبئة والتغليف 10 قطعة ، 25 قطعة
تخصيص المعالجة يختلف وقت معالجة النموذج ، والتوجه البلوري ، والسمك ، والمقاومة ، وما إلى ذلك اختلافًا طفيفًا وفقًا للمواصفات والمعلمات المختلفة.
مقدمة عن التطبيق يتم استخدامه لحاملات عينات الإشعاع السنكروتروني مثل العمليات ، وطلاء PVD / CVD كركائز ، وعينات نمو رش المغنطرون ، و XRD ، و SEM ،
القوة الذرية ، التحليل الطيفي بالأشعة تحت الحمراء ، التحليل الطيفي الفلوري وركائز اختبار التحليل الأخرى ، ركائز نمو الشعاع الجزيئي ، تحليل الأشعة السينية لأشباه الموصلات البلورية

ZMSH هو مصنع لقوة أشباه الموصلات ، خاص لاختبار معدات مختبر البحث العلمي ، 2-3-4-5-6-8 بوصة رقائق أكسيد السيليكون المصقول ، عالية النقاء أحادية الكريستال المطلية بالسيليكون المجهر الإلكتروني رقائق البحث العلمي الركيزة

يرجى استشارة المالك قبل تقديم طلب للحصول على مواصفات محددة ، ولا تتردد في طرح أي أسئلة حول رقائق السيليكون.

نرحب بجميع مختبرات البحث العلمي وشركات أشباه الموصلات للطلب ، ويمكن استلام طلبات OEM ، ويمكن استيراد رقائق السيليكون.

بيان خاص: تتم معالجة جميع رقائق السيليكون لشركتنا من السيليكون البلوري الأحادي المستخرج من البولي سيليكون الأصلي ، وليس رقائق السيليكون المعاد تدويرها الرخيصة أو رقائق السيليكون المعاد صقلها!يتضمن عرض الأسعار فاتورة ضريبة القيمة المضافة 16٪.

قائمة الجرد الخاصة بنا لرقائق السيليكون (درجة IC ، طريقة السحب تشيكوسلوفاكيا)
رقاقة سيليكون مصقولة ذات جانب واحد وسحب مستقيم
1 بوصة (25.4 مم) بسكويت الويفر المصقول أحادي الجانب بسماكة 500 ميكرومتر
2 بوصة (50.8 مم) رقاقة Czochralski مصقولة من جانب واحد بسمك 280um
رقاقة Czochralski مصقولة من جانب واحد 3 بوصات (76.2 مم) بسمك 380 ميكرومتر
رقاقة سليكونية مصقولة من جانب واحد بسماكة 500 ميكرومتر
رقاقة Czochralski مصقولة من جانب واحد 5 بوصات (125 مم) بسماكة 625 ميكرون
رقاقة Czochralski مصقولة من جانب واحد 6 بوصات (150 مم) بسماكة 675 ميكرومتر

Czochralski رقائق السيليكون المصقولة على الوجهين
رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين مقاس 1 بوصة (25.4 مم) بسماكة 500 ميكرومتر
2 بوصة (50.8 مم) رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين بسمك 280um
رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين 3 بوصات (76.2 ملم) بسمك 380 ميكرومتر

رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين 4 بوصات (100 مم) بسماكة 500 ميكرومتر
5 بوصات (125 مم) رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين بسمك 625um
رقاقة Czochralski مصقولة على الوجهين 6 بوصات (150 مم) بسماكة 675 ميكرومتر
رقائق سيليكون رفيعة للغاية مصقولة بشكل مستقيم من جانب واحد

1 بوصة (25.4 مم) من جانب واحد مصقول رفيع للغاية بسماكة 100 ميكرومتر
2 بوصة (50.8 مم) من جانب واحد مصقول رفيع للغاية بسماكة 100 ميكرومتر
3 بوصات (76.2 مم) من جانب واحد مصقول رفيع للغاية بسماكة 100 ميكرومتر
4 بوصات (100 مم) رقاقة سليكونية رفيعة للغاية مصقولة من جانب واحد بسماكة 100 ميكرومتر

Czochralski رقائق سيليكون رفيعة للغاية مصقولة على الوجهين
رقاقة Czochralski رفيعة للغاية مصقولة على الوجهين مقاس 1 بوصة (25.4 مم) بسمك 100um
2 بوصة (50.8 مم) رقاقة Czochralski رفيعة للغاية مصقولة على الوجهين بسمك 100um
رقاقة Czochralski رفيعة للغاية مصقولة على الوجهين مقاس 3 بوصات (76.2 مم) بسمك 100 ميكرون
رقاقة Czochralski رفيعة للغاية مصقولة على الوجهين بطول 4 بوصات (100 مم) بسمك 100 ميكرومتر

رقاقة السيليكون (درجة IC ، ذوبان المنطقة FZ)
منطقة ذوبان رقاقة السيليكون المصقول من جانب واحد
بسماكة 1 بوصة (25.4 مم) بسماكة 500 ميكرومتر في منطقة تلميع أحادية الجانب
2 بوصة (50.8 مم) رقاقة السيليكون المنصهر بسماكة 280 ميكرومتر في منطقة تلميع من جانب واحد

3 بوصات (76.2 مم) رقاقة سيليكون مصهورة بسماكة 380 ميكرومتر في منطقة تلميع من جانب واحد
رقاقة سليكون مدمجة 4 بوصات (100 مم) بسماكة 500 ميكرومتر في منطقة تلميع من جانب واحد

منطقة ذوبان رقائق السيليكون المصقول على الوجهين
1 بوصة (25.4 مم) رقاقة سيليكون مصهورة بسماكة 500 ميكرومتر في منطقة تلميع على الوجهين
2 بوصة (50.8 مم) رقاقة السيليكون المنصهر بسماكة 280 ميكرومتر في منطقة التلميع على الوجهين
3 بوصات (76.2 مم) رقاقة سيليكون مصهورة بسماكة 380 ميكرومتر في منطقة تلميع على الوجهين
رقاقة سيليكون مصهورة 4 بوصات (100 مم) بسماكة 500 ميكرومتر في منطقة تلميع على الوجهين

منطقة ذوبان رقاقة سيليكون رفيعة من جانب واحد مصقولة
منطقة تلميع أحادية الجانب مقاس 1 بوصة (25.4 مم) تذوب بسماكة 100 ميكرومتر من رقاقة السيليكون الرقيقة للغاية
2 بوصة (50.8 مم) منطقة تلميع من جانب واحد تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر
3 بوصات (76.2 مم) منطقة تلميع أحادية الجانب تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر
4 بوصات (100 مم) منطقة تلميع من جانب واحد تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر

منطقة ذوبان رقائق السيليكون رقيقة جدا مصقولة على الوجهين
1 بوصة (25.4 مم) منطقة تلميع على الوجهين تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر
2 بوصة (50.8 مم) منطقة تلميع على الوجهين تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر

3 بوصات (76.2 مم) منطقة تلميع على الوجهين تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر
4 بوصات (100 مم) منطقة تلميع على الوجهين تذوب بسماكة رقيقة جدًا من السيليكون بسماكة 100 ميكرومتر


معلمات المنتج.لرقائق 8 بوصة si
حجم المنتج.8 بوصة من رقاقة السيليكون المصقول أحادي الجانب
أساليب الانتاج.كزوشرالسكي (CZ)
القطر والتسامح مم.200 ± 0.3 مم
الموديل / نوع المنشطات.نوع N (فسفور ، زرنيخ) نوع P (بورون مخدر)
اتجاه الكريستال.<111> <100> <110>
المقاومة النوعية.0.001-50 (أوم-سم) (يمكن تخصيص نطاقات مقاومة مختلفة وفقًا لمتطلبات العملاء)
تسطيح TIR.<3 ميكرومتر ؛Warpage TTV.<10 ميكرومتر ؛الانحناء الانحناء.<10 ميكرومتر
خشونة رع <0.5 نانومتر ؛حبيبات pewaferr <10@0.3um
التعبئة والتغليف 25 قطعة حزمة 100-مستوى غرفة نظيفة التعبئة والتغليف فراغ طبقة مزدوجة
 
تستخدم لحاملات عينات الإشعاع السنكروتروني مثل العمليات ، وطلاء PVD / CVD كركيزة ، وعينات نمو رش المغنطرون ، و XRD ، و SEM ، والقوة الذرية ، والتحليل الطيفي بالأشعة تحت الحمراء ، والتحليل الطيفي الفلوري وغيرها من ركائز التحليل والاختبار ، وركائز نمو الشعاع الجزيئي ، والأشعة السينية تحليل الطباعة الحجرية البلورية لأشباه الموصلات

يجب أن تتضمن معلومات الطلب ما يلي:
1. المقاومة
2. الحجم: 2 "، 3" ، 4 "، 5" ، يمكن تخصيص أحجام أخرى
3. سمك
4. تلميع من جانب واحد ، تلميع على الوجهين ، لا تلميع
5. الصف: الصف الميكانيكي ، درجة الاختبار ، الدرجة الأولية (فيلم إيجابي)
6. نوع التوصيل: نوع P ، نوع N.
7. اتجاه الكريستال
7. نوع المنشطات: مخدر بورون ، مخدر بالفوسفور ، مخدر بالزرنيخ ، مخدر بالغاليوم ، مخدر بالأنتيمون ، غير مخدر
8. TTV، BOW (القيمة العادية أقل من 10 ميكرومتر)